碳納米管纖維具有優(yōu)良的電學(xué)性能和易于自組裝的優(yōu)點(diǎn)，有成為高性能電纜線(xiàn)的潛力。但與金屬（銅的電導(dǎo)率為5.8×107S／m）相比，由于其管間接觸電阻過(guò)大、纖維內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷（如局部纏結(jié)、致密化程度不勻）以及合成過(guò)程中的非晶態(tài)碳和芳香烴等雜質(zhì)的影響，還達(dá)不到許多高端應(yīng)用領(lǐng)域（航空航天、微電子器件等）對(duì)材料電導(dǎo)率的要求。因此開(kāi)發(fā)及發(fā)展有效的復(fù)合纖維制備方法和技術(shù)以提升復(fù)合纖維的導(dǎo)電性，在提高纖維實(shí)用性中極其重要。

電沉積法和化學(xué)沉積法

電沉積法是指在沉積液中，碳納米管纖維作為陰極，金屬板作為陽(yáng)極，接通電源后金屬?gòu)幕�合物水溶液中沉積到纖維基底的方法。化學(xué)沉積法是指利用一種合適的還原劑使鍍液中的金屬離子還原并沉積在基體表面的化學(xué)還原過(guò)程�；瘜W(xué)沉淀法對(duì)儀器設(shè)備依賴(lài)小，有批量化生產(chǎn)的可能，與電沉積法相比，該方法可獲得致密均勻的鍍層，也可用于不規(guī)則、不易接觸的表面。

圖 1　電沉積法制備碳納米管復(fù)合纖維的相關(guān)研究及結(jié)果

磁控濺射法

磁控濺射法是指用磁控濺射儀將金屬原子從金屬靶上濺射出來(lái)，在電場(chǎng)力影響下沉積至碳納米管纖維上的方法，也是物理氣相沉淀法（PVD）的一種。

圖2　磁控濺射法制備碳納米管復(fù)合纖維的相關(guān)研究及結(jié)果

離子摻雜法

離子摻雜法是比較簡(jiǎn)單直接的方法，通過(guò)將碳納米管纖維浸入摻雜劑中，用自然滲透或后處理的方式使離子進(jìn)入纖維內(nèi)部來(lái)提高其電學(xué)性能。

圖 3　離子摻雜法制備碳納米管復(fù)合纖維的相關(guān)研究及結(jié)果

提高碳納米管纖維電學(xué)性能主要通過(guò)與金屬粒子（銅、鎳、銀等）復(fù)合，但往往纖維電導(dǎo)率提高的同時(shí)金屬層也會(huì)增加，進(jìn)而影響復(fù)合纖維的斷裂強(qiáng)度和斷裂伸長(zhǎng)。其中電沉積法和離子摻雜法工藝更為簡(jiǎn)單，前者由于裝置限制無(wú)法進(jìn)行大批量制備，而后者所能達(dá)到的電導(dǎo)率低于其他方法。用磁控濺射法所制備的金屬層更加致密，復(fù)合纖維的電導(dǎo)率整體上更高，均勻度更好，解決儀器裝置的限制是磁控濺射法發(fā)展的關(guān)鍵。化學(xué)沉積法由于無(wú)儀器裝置方面的限制，復(fù)合纖維性能好，是目前唯一有望進(jìn)行批量生產(chǎn)的方法，但其步驟較為復(fù)雜且成本較高。

根據(jù)文獻(xiàn)調(diào)研，目前碳納米管復(fù)合高導(dǎo)電纖維的生產(chǎn)主要需要解決如下幾個(gè)問(wèn)題：（1）金屬層與碳納米管基底的結(jié)合力弱；（2）金屬層厚度（影響纖維電導(dǎo)率）與復(fù)合纖維強(qiáng)度間的平衡；（3）摻雜離子在纖維中的分散均勻性；（4）產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的裝置。隨著對(duì)碳納米管纖維加工－結(jié)構(gòu)－性能關(guān)系研究的深入，新的加工工藝或改進(jìn)方法有望解決相應(yīng)問(wèn)題，使碳納米管纖維在航空航天、可穿戴智能產(chǎn)品等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

更多內(nèi)容，請(qǐng)關(guān)注《紡織導(dǎo)報(bào)》2021年第8期“碳納米管纖維及其復(fù)合高導(dǎo)電纖維的研究進(jìn)展”一文。